IBM
IBM ออกมาประกาศความสำเร็จในการพัฒนากระบวนการผลิตชิประดับ 7 นาโนเมตร เล็กลงจากกระบวนการผลิตในปัจจุบันที่อยู่ระดับ 10-14 นาโนเมตร
เทคโนโลยีระดับ 7 นาโนเมตรยังอยู่ในห้องทดลองและยังไม่สามารถนำมาใช้งานจริงได้เร็วนัก การลดขนาดกระบวนการผลิตรอบนี้มีอุปสรรคเยอะพอสมควร เพราะขนาดเริ่มเล็กลงจนใกล้ข้อจำกัดเชิงกายภาพ ทำให้ควบคุมการวิ่งของอิเล็กตรอนได้ยากขึ้น ในแง่การผลิตจึงต้องหาเทคนิคใหม่ๆ เข้ามาช่วยแก้ปัญหานี้
เทคนิคที่ IBM ใช้คือเปลี่ยนวัสดุมาเป็น silicon-germanium (SiGe) แทนการใช้ซิลิคอนเพียงอย่างเดียว และพัฒนาเทคนิคการวางขาของทรานซิสเตอร์ให้เรียงตัวกันได้แน่นกว่าเดิม
on
